QE Proのグレーティングとスリットの選択により、スペクトル範囲(*注)と分解能（参考値）が決定します。
| スペクトル範囲 | 励起波長 | グレーティング | スリット | 分解能(参考値) |
|---|---|---|---|---|
| 150～4000 cm-1 | 532 nm | H6 | 10 μm | ～ 8 cm-1 |
| 25 μm | ～ 10 cm-1 | |||
| 150～7500 cm-1 | 532 nm | H14 | 10 μm | ～ 16 cm-1 |
| 25 μm | ～ 19 cm-1 | |||
| 150～2100 cm-1 | 785 nm | H6 | 50 μm | ～ 6 cm-1 |
| 100 μm | ～ 8 cm-1 | |||
| 150～3950 cm-1 | 785 nm | H14 | 50 μm | ～ 13 cm-1 |
| 100 μm | ～ 18 cm-1 |
ラマン測定用の励起光としてコンパクトな半導体レーザをご用意しています。
| LASER-785 | LASER-532 | |
|---|---|---|
| ピーク波長 | 785nm | 532nm |
| 出力 | 350mW | 100mW |
| スペクトル幅 | <0.15nm | <0.05nm |
励起レーザの波長に対応した光学フィルタを内蔵したラマンプローブです。
ご用途に応じて、レンズの焦点距離、ファイバコア径をお選びいただけます。
| 特長 | プローブサイズ(mm) | ファイバ長 | |
|---|---|---|---|
| RIP-RPB | ラボラトリプローブ（焦点距離7.5mmレンズのみ） | 114 x 38 x 12.7 | 1.5m |
| RIP-RPS | ステンレススチールプローブ | 12.7 OD x 101length | 5m |
| RIP-RP2 | 高温（200℃）対応ステンレススチール浸漬式プローブ | 15.87 OD x 203 length | 5m |
| RIP-RPR-H | 高温(200℃)高圧(1500psi)対応ゴールドガスケットハステロイC浸漬式プローブ | 15.87 OD x 330 length | 5m |
| RIP-RPR-S | 高温(200℃)高圧(1500psi)対応Oリング付ステンレススチール浸漬式プローブ | 15.87 OD x 330 length | 5m |
| RIP-PA-SH | キュベット用サンプルホルダ | - | - |
システム構成：QE Pro（グレーティングH6;150-2100cm-1、スリット;50um）、LASER-785、RIP-RPB 測定条件（露光時間：1sec、スキャン平均：１回、波長スムージング：0）
システム構成：QE Pro（グレーティングH6;150-2100cm-1、スリット;50um）、LASER-785、RIP-RPB 測定条件（露光時間：1sec、スキャン平均：１回、波長スムージング：0）
システム構成：QE Pro（グレーティングH6;150-2100cm-1、スリット;50um）、LASER-785、RIP-RPB 測定条件（露光時間：1sec、スキャン平均：１回、波長スムージング：0）
測定内容
